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Überwachen der Tensidkonzentration bei der Reinigung von Waferträgern

Bei der Herstellung und Verarbeitung von Silizium-Wafern spielt die Reinheit der Scheiben eine entscheidende Rolle. Die für den Transport der Wafer eingesetzten Waferträger müssen höchste Sauberkeitsanforderungen erfüllen.

Um den hohen Anforderungen gerecht zu werden, muss in der Reinigerlösung eine hinreichend hohe Reinigerkonzentration vorhanden sein. Nach dem letzten Spülgang dürfen keine Reiniger-Reste auf den Oberflächen verbleiben.

Durch Messen der Oberflächenspannung kann eine optimale Tensid-Konzentration für den jeweiligen Reinigungsschritt ermittelt und in der Produktion ständig überwacht werden. Die Tensiometer der SITA Messtechnik GmbH erlauben eine enge Steuerung der Tensidkonzentration im optimalen Bereich. Dies führt zu einem geringeren Tensidverbrauch und dadurch zur Reduzierung der Verschleppungen in die Spülbäder.


 

Das Bild zeigt die dynamische Oberflächenspannung für unterschiedliche Konzentrationen eines Reinigertensids.

SITA clean line ST

Inline-Messung der Tensidkonzentration

Eine kontinuierliche und automatische Messung der Oberflächenspannung für die automatische Dosierung der Tensidkomponente ist mit dem Prozess-Tensiometer SITA clean line ST einfach möglich. Dies kann durch Einbindung des Messsystems in die Anlagensteuerung oder Nutzung der Steuereinheit SITA clean line CC flexibel realisiert werden.

Weitere Information zur Inline-Messung im Prozess [..]

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