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Netzmittelkontrolle bei Ätzprozessen in der Halbleiterfertigung

Damit eine vollständige Benetzung der Waferoberfläche mit dem Ätzmittel bzw. Entwickler gewährleistet werden kann, enthalten die Lösungen Netzmittel, welche die Oberflächenspannung herabsetzen. Dies ist die Voraussetzung für eine gleichmäßige Benetzung aller Strukturen.

Gerade das zeitabhängige Benetzungsverhalten ist hier von großer Bedeutung, um eine möglichst hohe Homogenität zu erreichen. Die weitläufig gebräuchlichen Messverfahren, wie die Platten- oder Ringmethode, sind hierfür ungeeignet, da sie nur die statische und nicht die dynamische Oberflächenspannung messen können. Weiterhin erfordern sie einen erheblichen Reinigungs- und damit auch Zeitaufwand nach jeder Messung.

Mit den Tensiometer der SITA Messtechnik GmbH, die nach der Blasendifferenzdruckmethode arbeiten, ist es möglich, die Oberflächenspannung vom hochdynamischen bis in den quasistatischen Bereich hinein zu messen. Das Ergebnis sind aussagekräftige Werte über das Benetzungsvermögen der Lösungen und deren zeitliches Verhalten.

SITA pro line t15

Atline-Kontrolle der Tensidkonzentration

Für die Qualitätsüberwachung empfiehlt sich besonders das flexible Tensiometer SITA pro line t15. Mit ihm können in kürzester Zeit und vor Ort Messungen der dynamischen Oberflächenspannung durchgeführt und mit dem vorher ermittelten Sollwerten verglichen werden. Somit kann einfach und schnell das Benetzungsverhalten kontrolliert werden.

Weitere Information zum Atline-Einsatz am Prozess [...]

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