Tetramethylamoniumhydroxidlösungen (TMAH) werden bei der Halbleiter-Fertigung als Entwickler in der Lithografie oder als Reiniger vor dem Chemisch-Mechanischem Polieren (CMP) eingesetzt. Die meist im Schleuderverfahren aufgetragene Entwicklerlösung muss die Waferoberfläche vollständig und gleichmäßig benetzen. Dies ist die Voraussetzung für eine konstante, geometrieunabhängige Wirkung des Entwicklers.
Die optimale Benetzung wird durch definierten Einsatz von Tensiden eingestellt. Aufgrund des zeitabhängigen, dynamischen Vorganges des Benetzens müssen adäquate Tenside in der richtigen Konzentration ausgewählt werden. Diese Auswahl und die Einstellung bzw. Überwachung der Tensidkonzentration wird optimal durch Messen der dynamische Oberflächenspannung unterstützt.
Für die Überwachung der Oberflächenspannung in den Badansätzen bietet SITA verschiedene Lösungen an. Die Tensiometer nutzen die innovative Blasendruckdifferenzmethode, mit der die Oberflächenspannung vom hoch dynamischen bis in den quasistatischen Bereich messbar ist.
Das Bild zeigt Messwerte der dynamischen Oberflächenspannung für unterschiedliche Tenside/Netzmittel in TMAH-Entwicklerlösungen.
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