Zum Minimieren der Lichtreflektion von Solarzellen zum Erhöhen deren Wirkungsgrad erfolgt das Texturieren der Ausgangs-Wafer. Dabei wird im Allgemeinen Kaliumhydroxid (KOH) und Isopropylaklohol (IPA) eingesetzt. IPA reduziert die Oberflächenspannung der Texturierungslösung und dient als Netzmittel. Die Qualität der texturierten Oberfläche und damit die Reflexionseigenschaften der Wafer hängen neben der KOH-Konzentration stark von der IPA-Konzentration ab. Für eine hohe Prozesssicherheit ist eine verbrauchsgerechte Nachdosierung des IPA erforderlich.
Das Bild zeigt den prinzipiellen Zusammenhang zwischen der Konzentration von Isopropylalkohol und der Oberflächenspannung der Texturierungslösung. Durch die automatische verbrauchsgerechte Dosierung des IPA wird eine hohe Qualität der Texturierung sicher gestellt.
Für das Überwachen und Steuern der IPA-Konzentration bieten wir Ihnen eine für Ihren Prozess passende technische Lösung. Die Möglichkeiten reichen von der Offline-Überwachung bis zur kontinuierlichen Inline-Messung der Oberflächenspannung mit automatischer Dosierung.
Für eine flexible Atline-Überwachung empfiehlt sich besonders das robuste und leichte Handtensiometer DynoTester+. Mit ihm lassen sich in kürzester Zeit und vor Ort an der Anlage Messungen durchführen und Abweichungen erkennen. Somit kann einfach und schnell die Konzentration der waschaktiven Tenside und die Menge der zu ergänzenden Tensidkomponente ermittelt werden.
Eine kontinuierliche und automatische Messung der Oberflächenspannung für die automatische Dosierung der Tensidkomponente ist mit dem Prozess-Tensiometer SITA clean line ST einfach möglich. Dies kann durch Einbindung des Messsystems in die Anlagensteuerung oder Nutzung der Steuereinheit SITA clean line CC flexibel realisiert werden.
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